高纯钽-溅射钽靶材 高纯钽粉 钽靶-中诺新材(优质商家)

X射线衍射仪

中诺新材分析测试设备——X射线衍射仪

Rigaku 靶材晶向比例分析系统（XRD）可直接用于检测直径在500mm以下的固体金属材料的内部织构。X射线是一种波长（0.06-20nm）很短的电磁波，当X 射线照射晶态结构时，将受到晶体点阵排列的不同原子或分子所衍射。当用波长为λ的单色X射线照射到两个晶面间距为d的晶面时会发生布拉格定律衍射，即2dsinθ=nλ（n为整数）θ称为衍射角（入射或衍射X射线与晶面间夹角）。应用X射线在晶体中的衍射现象。特征X射线作用于安装在测角仪上的晶体后产生衍射点，钽靶材 高纯钽蒸发料 高纯钽靶，通过检测器记录衍射点的强度数据。通过计算机控制完成衍射的自动寻峰、测定晶胞参数、收集衍射强度数据，统计系统消光规律，确定空间群等。进而计算晶体结构。

高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。

1、粉末冶金法：指钨粉经过成形后，加热到其熔点下的某个温度，通过物质迁移完成致密化的过程，***终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。

2、熔炼法：指将钨原料加热到其熔点以上形成液相，去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程，根据所采用的手段不同，具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。

3、化学气相沉积：指以钨化合物气体（一般为WF6）为钨源，在一定温度下被H2还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，高纯钽，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯（或者制品）的过程。

蒸发作为PVD技术的一种，被广泛应用于半导体行业中的芯片背面金属化工艺，溅射钽靶材 高纯钽粉 钽靶，作为***的PVD薄膜材料供应商，中诺新材可以提供各种规格的全系列高纯金属蒸发材料。同时，这些材料亦广泛应用于精密合金熔炼、高纯化合物制备以及高品质晶体制备等领域。

部分产品如下：

材料纯度(%)状态

高纯铝(Al)99.999-99.9999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铜(Cu)99.99-99.9999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯钛(Ti)99.5-99.999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯镍(Ni)99.9-99.999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铬(Cr)99.5-99.99颗粒 粉末

高纯钴(Co)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铁(Fe)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯镁(Mg)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铪(Hf)99.95颗粒 粉末 丝状 片状

高纯锆(Zr)99.5-99.95颗粒 粉末 块状

高纯铟(In)99.995-99.9999，颗粒 粉末 丝状 片状

高纯钽(Ta)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状，片状

高纯铌(Nb)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铅(Pb)99.99-99.999颗粒 粉末 片状

高纯硒(Se)99.99-99.9999颗粒 粉末

高纯碲(Te)99.99-99.9999颗粒 粉末

高纯锗(Ge)99.9999颗粒 粉末 片状

高纯硅(Si)99.9999颗粒 粉末 片状

高纯锡(Sn)99.99-99.999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯锌(Zn)99.99-99.9999颗粒 粉末 片状

高纯钽-溅射钽靶材 高纯钽粉 钽靶-中诺新材(优质商家)由中诺新材（北京）科技有限公司提供。行路致远，砥砺前行。中诺新材（北京）科技有限公司（www.znxc.com）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为其它具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!同时本公司（www.6.znxc.com.cn）还是从事铂靶，铂颗粒，铂丝铂片的厂家，欢迎来电咨询。